客户设计的一款玉石腕表，优雅大气，彰显如玉的君子气质，其中和田玉表盘的去粗及抛磨抛亮，需要通过CMP化学机械抛光工艺来实现。

  经过吉致电子CMP抛光液与抛光垫的组合抛磨，去除毛坯料表面凹凸不平划痕，还原出玉石的本真光泽和天然纹理。抛光后表盘工件看起来绵密细腻、糯性和油脂感足。通过CMP抛光玉石的优点是可以快速减薄尺寸，抛光效率快、亮度高，对玉石的损伤小，可以进行批量化抛光，降低人工抛光成本。

  吉致电子CMP玉石抛光液抛光工艺及效果如下：

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