吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

碳化硅晶圆抛光液·参数吉致电子，CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

产品名称：碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液

产品简介：为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光洁度

吉致电子碳化硅抛光液特点：

·用于可扩展制造低缺陷功率和半绝缘 SiC（碳化硅）衬底的高性能Slurry抛光浆料。

·专为满足Sic晶圆基片C面、单晶硅、多晶硅从研磨到 CMP工艺各阶段的规格而设计

·定制硅晶圆工件 CMP 系统的优化解决方案，以提供较低的成本

·高抛光速率的抛光液配方，快速高效同时保持均匀性、零亚表面损伤和低缺陷/划痕

·Slurry抛光液可大批量制造 (HVM) 并与散装输送系统兼容

·可根据要求设计定制解决方案。

抛光过程中具有：

1.高抛光速率 --------精密的磨料和化学配方专门设计，用于SiC外延片碳化硅衬底上提供高去除率和低表面粗糙度

2.高平坦度加工-----吉致碳化硅晶圆精抛液不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格：

吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。

吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！

无锡吉致电子科技有限公司

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