吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

氧化硅抛光液·参数吉致电子，CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

产品名称：氧化硅抛光液,硅溶胶抛光液,二氧化硅抛光液,精抛液,纳米抛光液

磨料类型：高纯纳米氧化硅微粒

磨料粒径：10-150nm（最高可达150nm）

吉致电子氧化硅抛光液悬浮性极佳，高固含量、分散性好，易摇散且不团聚，化学性能稳定。氧化硅精抛液抛光效率高，能有效缩短工时，磨抛后工件呈现镜面效果，无划伤、高平坦。

产品工艺及用途：通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶，经钝化添加化学助剂以及特殊工艺配制的二氧化硅抛光浆料。适用集成电路/半导体/特殊材料/金属材质/脆硬材料的镜面抛光。

氧化硅抛光液·晶体形态

吉致电子氧化硅抛光液/氧化硅精抛液/硅溶胶抛光液

可按客户工艺要求调制硅溶胶抛光浆料

氧化硅抛光液——二氧化硅微粒在抛光工件表面的损伤层极微，硬度和硅片的硬度相近，常用于半导体硅片的抛光。

氧化硅精抛液——采用纳米级的硅溶胶有效减小表面粗糙度和损伤层深度。

二氧化硅（SiO₂）是硅溶胶抛光液的重要组成部分，其粒径大小、致密度、分散度等因素直接影响化学机械抛光的速率和抛光质量。

<吉致电子>氧化硅抛光液特点：

1.分散性好、不结晶。

2.粒径分布广泛：5-100nm。

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

6.PH、粒径、稳定离子等可以根据客户定制(10-150 nm)

抛光过程中具有：

1.高抛光速率，利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。（可以生产150 nm）。

2.高平坦度加工，吉致氧化硅精抛液是利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。

抛光过程后具有：

1.精度可以达到纳米

2.划伤和挖伤可以达到0/0

氧化硅抛光液·产品参数

吉致电子氧化硅抛光液/硅溶胶精抛液

 多种型号对应不同磨抛需求（查看更多型号请联系我们）

吉致电子氧化硅抛光液使用方法：

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

2.稀释后，粗抛时调节PH11左右，精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

3.循环抛光可以用原液。

吉致电子氧化硅抛光液储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

吉致电子氧化硅抛光液价格：

吉致电子的氧化硅抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。

吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！

无锡吉致电子科技有限公司

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